Contribution à l’étude du comportement électrochimique du plomb en milieu chlorhydrique. Effet de l’addition des composés organiques de type « pyrazole » et « aminoacide » et des ions minéraux

Abstract

L’objectif principal de la thèse est de mettre au point des inhibiteurs de corrosion de plomb en milieu industrielle en vue de la réalisation de bain de décapage dans les réservoirs de HCI et de faire la corrélation entre structure et l’efficacité inhibitrice. La première partie de cette étude est réservée à l’étude du comportement électrochimique du plomb en milieu chlorhydrique. Dans ce milieu, le plomb s’annonce sensible aux variations de pH, de la concentration en chlorures, de la température et de la vitesse de balayage. L’effet de l’addition des composés organiques de type « aminoacide » et « pyrazole » sur le comportement à la corrosion du plomb en milieu chlorhydrique a fait l’objet de la deuxième partie. Le produit méthionine (MET) de la famille des aminoacides et le Bis (3-carbomethoxy -5- méthyle -1- pyrazolyl) méthane de la famille des pyrazoles se sont avérés comme meilleurs inhibiteurs parmi tous les composés testés. Une étude plus détaillée était menée à leurs égards. Les deux composés s’adsorbent sur la surface du plomb suivant l’isotherme de langmuir. La troisième partie de ce travail montre que l’effet de l’addition des ions halogénures et phosphates diminue les courants des pics sans modification de l’allure des courbes cycliques. On note toutefois que le rapport des quantités d’électricité anodique et cathodique est proche de l’unité pour l’ajout de F’ et s’éloigne de l’unité pour l’addition du Br- et I-. En présence des ions sulfates l’allure des courbes voltampérométriques i-E est modifiée à partir des concentrations 0,34 M.