Caractérisation structurale des interfaces Ni/Nio et Ti/Tio₂

Abstract

Ce mémoire est relatif à la caractérisation structurale des interfaces Ni-Nio et Ti-Tio₂. L’étude "in situ" de l’oxydation de lames minces a été effectuée ; la germination et la croissance de l’oxyde ont été étudiées et le relations d’orientation mutuelles métal/oxyde ont été déterminées. Grâce au formalisme du réseau "O", les relations d’orientation les plus probables ont été définies. Des films minces de Tio₂ détachés de leur support métallique ont été également caractérisés et l’étude de l’influence du recuit sous-vide sur la structure et la morphologie des couches de Tio₂ au niveau des interfaces interne et externe a été tentée. D’autre part, l’observation de l’interface métal-oxyde, effectuée sur des lames minces composites préparées à partir d’échantillons oxydés à 750°C, montre une structure duplex des couches de Nio et Tio₂. Une oxydation préférentielle des joints de grains du métal sous-jacent à la couche d’oxyde a été également observée.